Conditionneur de pad Diamant 3M™ série C
- 3M ID B5005469001
Bénéficiez d'un conditionnement efficace pour les processus sensibles aux métaux. Les revêtements des conditionneurs de pad CMP 3M™ constituent une couche durable sur le conditionneur de pad, ce qui permet de réduire la contamination par des métaux jusqu'à 75 %. Le revêtement est associé à la technologie d'abrasifs 3M pour minimiser encore davantage les défauts dus aux micro- et macro-rayures.
Détails
Descriptions
- Optimisation de la forme des diamants, du contrôle du pas et de l'orientation des diamants
- Régularité améliorée et réduction des variations d'un disque à l'autre
- Ralentissement de l'usure des pads avec des taux d'enlèvement et des profils stables
- Permet de prolonger la durée de vie des disques et des pads
- Utilise la technologie d'abrasifs 3M pour une bonne rétention des diamants
- Contrôle de la planéité amélioré de 40 % par rapport aux conceptions antérieures
Le conditionneur de pad Diamant 3M™ série C est un conditionneur de pad de planarisation chimico-mécanique (CMP) haute technologie qui vous aide à obtenir des performances fiables pour les applications critiques de semi-conducteurs CMP. Conditionnez les surfaces de vos pads CMP avec le conditionneur de pad Diamant 3M™ série C. Il permet également de minimiser l'usure et de conserver des aspérités uniformes ainsi que des performances constantes des pads, wafer après wafer. Ces conditionneurs de disques diamant utilisent la technologie d'abrasifs exclusive de 3M pour une excellente rétention des diamants, ce qui prolonge la durée de vie et permet un meilleur contrôle de la forme et de l'orientation des diamants par rapport aux conditionneurs de pad diamant traditionnels. La régularité améliorée et les variations plus faibles vous permettent de réduire les variables et d'optimiser vos performances CMP.
Spécifications
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