Conditionneur de pad Diamond Disc 3M™

  • 3M ID B5005035338

Améliore la durée d'utilisation des pads et des disques

Une durée de vie plus longue des pads et des disques permet aux clients de réduire le nombre d'arrêts pour entretien, permettant de réduire le coût de production.

Excellente rétention des diamants grâce à un procédé d'assemblage mécano-chimique

Voir plus de détails
Graphique montrant comment les revêtements de conditionneurs de pad CMP réduisent la contamination par des métaux.
Revêtement sur les conditionneurs de pad CMP 3M™

Bénéficiez d'un conditionnement efficace pour les processus sensibles aux métaux. Les revêtements des conditionneurs de pad CMP 3M™ constituent une couche durable sur le conditionneur de pad, ce qui permet de réduire la contamination par des métaux jusqu'à 75 %. Le revêtement est associé à la technologie d'abrasifs 3M pour minimiser encore davantage les défauts dus aux micro- et macro-rayures.

Détails

Descriptions
  • Améliore la durée d'utilisation des pads et des disques
  • Une durée de vie plus longue des pads et des disques permet aux clients de réduire le nombre d'arrêts pour entretien, permettant de réduire le coût de production
  • Excellente rétention des diamants grâce à un procédé d'assemblage mécano-chimique
  • Un substrat en polymère exclusif améliorant la résistance à la corrosion
  • Personnalisable en fonction de l'agressivité du conditionnement
  • Les spécifications strictes de planarité des disques 3M améliorent l'uniformité de l'usure des pads

Les conditionneurs Diamond Disc 3M™sont des conditionneurs de pad de planarisation chimico-mécanique (CMP) haute technologie qui offrent des performances fiables pour les applications critiques de semi-conducteurs CMP.

Conditionnez les surfaces de vos pads CMP avec les conditionneurs de pad Diamant 3M™. Ils permettent également de minimiser l'usure et de conserver des aspérités uniformes ainsi que des performances constantes des pads, wafer après wafer. Les conditionneurs de pad CMP de 3M utilisent une technologie d'abrasifs pour une excellente rétention des diamants et une plus grande durée de vie, avec un contrôle du placement et de la protrusion. Leurs grains diamant monocouche à espacement hautement contrôlé permettent de mieux prévoir et d'optimiser l'utilisation des pads CMP, pour une planarisation plus efficace.

Applications recommandées : Technologie avancée (mémoire et logique), CMP, fabrication de disques durs et de wafers
Lecteur vidéo en cours de chargement.
Temps actuel 0:00
Durée 0:00
Chargé: 0%
Type de flux EN DIRECT
Temps restant 0:00
 
  • Chapitres
  • descriptions désactivées, sélectionné
  • Sous-titres désactivés, sélectionné
    1. En cours de lecture
      À suivre3M™ Diamond Pad Conditioners
    2. En cours de lecture
      À suivreRedefining CMP Materials

    Spécifications

    Utilisation

    Nœud avancé (mémoire et logique), Fabrication de plaquettes, Fabrication de disques durs, CMP

    Ressources

    Contactez-nous. Nous sommes là pour vous aider.

    Besoin d’aide pour trouver le bon produit? Contactez-nous si vous avez besoin de conseils techniques, d’informations sur nos produits et leurs applications ou si vous souhaitez faire appel à un spécialiste technique 3M

    Envoyez-nous un message

    Nous vous remercions de votre intérêt pour 3M. Pour nous permettre de gérer votre demande et d'y répondre le plus précisément possible, nous vous prions de bien vouloir nous fournir quelques informations, comme vos coordonnées. Les informations que vous nous fournirez seront utilisées pour répondre à votre demande par e-mail ou par téléphone. Vous serez contacté par un représentant de 3M ou par l'un de nos partenaires commerciaux agréés avec lesquels nous pourrions partager vos informations personnelles conformément à la Politique de confidentialité de 3M.

    • Sélectionnez un élément
    • France
    • Sélectionnez un élément
    • Envoyer le message

    Merci d'avoir contacté 3M.

    Nous avons bien reçu votre message et nous examinons actuellement votre demande.
    L'un de nos représentants vous contactera par téléphone ou par e-mail.

    An error occurred.